Modeling of InP Etching Under ICP Cl2/Ar/N2 Plasma Mixture: Effect of N2 on the Etch Anisotropy Evolution
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Additional Info
| Field | Value |
|---|---|
| Source | ISSN: 1612-8850 |
| Author | Chanson, Romain, Rhallabi, A., Claude Fernandez, Marie, Cardinaud, Christophe |
| Maintainer | CCSD |
| Last Updated | May 5, 2026, 15:57 (UTC) |
| Created | May 5, 2026, 15:57 (UTC) |
| Identifier | hal-00975499 |
| Language | en |
| contributor | Institut des Matériaux Jean Rouxel (IMN) ; Université de Nantes - UFR des Sciences et des Techniques (UN UFR ST) ; Université de Nantes (UN)-Université de Nantes (UN)-Ecole Polytechnique de l'Université de Nantes (EPUN) ; Université de Nantes (UN)-Université de Nantes (UN)-Institut de Chimie - CNRS Chimie (INC-CNRS)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS) |
| creator | Chanson, Romain |
| date | 2013-05-05T00:00:00 |
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| harvest_source_title | test moissonnage SELUNE |
| metadata_modified | 2024-04-11T00:00:00 |
| relation | info:eu-repo/semantics/altIdentifier/doi/10.1002/ppap.201200083 |
| set_spec | type:ART |