Pattern density multiplication by direct self assembly of block copolymers: Towards 300mm CMOS requirements

Conference on Alternative Lithographic Technologies IV Location: San Jose, CA Date: FEB 13-16, 2012 Sponsor(s): SPIE

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Additional Info

Field Value
Source ISSN: 0277-786X
Author Tiron, Raluca, Chevalier, Xavier, Gaugiran, Stéphanie, Pradelles, J., Fontaine, H., Couderc, C., Pain, L., Navarro, Christophe, Chevolleau, T., Cunge, Gilles, Delalande, M., Fleury, Guillaume, Hadziioannou, Georges
Maintainer CCSD
Last Updated May 11, 2026, 08:13 (UTC)
Created May 11, 2026, 08:13 (UTC)
Identifier hal-00817408
Language en
contributor Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI) ; Direction de Recherche Technologique (CEA) (DRT (CEA)) ; Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)-Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives (CEA)
creator Tiron, Raluca
date 2012-03-21T00:00:00
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harvest_source_title test moissonnage SELUNE
metadata_modified 2026-04-02T00:00:00
relation info:eu-repo/semantics/altIdentifier/doi/10.1117/12.916400
set_spec type:ART