Dielectric oxynitride LaTiO<sub>x</sub>N<sub>y</sub> thin films deposited by reactive radio-frequency sputtering

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Source ISSN: 0040-6090
Author Ziani, Ahmed, Le Paven-Thivet, Claire, Fasquelle, Didier, Le Gendre, Laurent, Benzerga, Ratiba, Tessier, Franck, Cheviré, François, Carru, Jean-Claude, Sharaiha, Ala
Maintainer CCSD
Last Updated May 20, 2026, 05:43 (UTC)
Created May 20, 2026, 05:43 (UTC)
Identifier hal-00693204
Language en
contributor Institut d'Electronique et de Télécommunications de Rennes (IETR) ; Université de Rennes (UR)-Institut National des Sciences Appliquées - Rennes (INSA Rennes) ; Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Ecole Supérieure d'Electricité - SUPELEC (FRANCE)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
creator Ziani, Ahmed
date 2012-05-01T00:00:00
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metadata_modified 2025-12-05T00:00:00
relation info:eu-repo/semantics/altIdentifier/doi/10.1016/j.tsf.2011.10.192
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