In situ spectroscopic ellipsometry study of TiO2 films deposited by plasma enhanced chemical vapour deposition

International audience

Data and Resources

Additional Info

Field Value
Source ISSN: 0169-4332
Author Li, D., Carette, Michèle, Granier, Agnès, A., P. Landesman, J., Goullet, Antoine
Maintainer CCSD
Last Updated May 5, 2026, 16:10 (UTC)
Created May 5, 2026, 16:10 (UTC)
Identifier hal-00974975
Language en
contributor Institut des Matériaux Jean Rouxel (IMN) ; Université de Nantes - UFR des Sciences et des Techniques (UN UFR ST) ; Université de Nantes (UN)-Université de Nantes (UN)-Ecole Polytechnique de l'Université de Nantes (EPUN) ; Université de Nantes (UN)-Université de Nantes (UN)-Institut de Chimie - CNRS Chimie (INC-CNRS)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
creator Li, D.
date 2013-05-05T00:00:00
harvest_object_id 8b944b4a-8f8d-473b-91e7-16c014e884d9
harvest_source_id 3374d638-d20b-4672-ba96-a23232d55657
harvest_source_title test moissonnage SELUNE
metadata_modified 2024-04-11T00:00:00
relation info:eu-repo/semantics/altIdentifier/doi/10.1016/j.apsusc.2013.06.091
set_spec type:ART