Silicon films deposited by LPCVD for microsystems
Data and Resources
Additional Info
| Field | Value |
|---|---|
| Source | Polyse 2002 |
| Author | Mahfoz-Kotb, H., Salaün, Anne-Claire, Mohammed-Brahim, Tayeb, Bendriaa, F., Le Bihan, France, Bonnaud, Olivier |
| Maintainer | CCSD |
| Last Updated | May 6, 2026, 04:27 (UTC) |
| Created | May 6, 2026, 04:27 (UTC) |
| Identifier | hal-00954226 |
| Language | en |
| contributor | Institut d'Électronique et des Technologies du numéRique (IETR) ; Université de Nantes (UN)-Université de Rennes (UR)-Institut National des Sciences Appliquées - Rennes (INSA Rennes) ; Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-CentraleSupélec-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS) |
| coverage | Nara, Japan |
| creator | Mahfoz-Kotb, H. |
| date | 2002-09-10T00:00:00 |
| harvest_object_id | 838dd957-5d9b-4431-a739-dceabd5b13f3 |
| harvest_source_id | 3374d638-d20b-4672-ba96-a23232d55657 |
| harvest_source_title | test moissonnage SELUNE |
| metadata_modified | 2025-12-08T00:00:00 |
| set_spec | type:COMM |