Modelling and engineering of stress based controlled oxidation effects for silicon nanostructures patterning
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Additional Info
| Field | Value |
|---|---|
| Source | ISSN: 0957-4484 |
| Author | Han, Xiang-Lei, Larrieu, Guilhem, Krzeminski, Christophe |
| Maintainer | CCSD |
| Last Updated | May 8, 2026, 05:22 (UTC) |
| Created | May 8, 2026, 05:22 (UTC) |
| Identifier | hal-00905392 |
| Language | en |
| Rights | https://about.hal.science/hal-authorisation-v1/ |
| contributor | Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 (IEMN) ; Centrale Lille-Institut supérieur de l'électronique et du numérique (ISEN)-Université de Valenciennes et du Hainaut-Cambrésis (UVHC)-Université de Lille-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Polytechnique Hauts-de-France (UPHF) |
| creator | Han, Xiang-Lei |
| date | 2013-11-14T00:00:00 |
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| metadata_modified | 2025-10-22T00:00:00 |
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