Method for etching a material in the presence of a gas

Procédé de gravure d'une structure (1) comprenant au moins un matériau à graver (4), comprenant : - choisir au moins une espèce chimique apte à réagir avec le matériau à graver (4), - choisir au moins un composé soluble apte à libérer l'espèce chimique précitée, - réaliser une solution (11) contenant ledit composé, - placer la structure (1) dans une position telle que la surface du matériau à graver soit en présence de la solution et de bulles additionnelles d'un gaz, - et produire dans la solution des ultrasons à haute fréquence, à au moins une fréquence, apte à générer des bulles réactives de cavitation telles que l'espèce chimique est générée en présence desdites bulles additionnelles et réagit avec le matériau à graver en produisant un composé soluble ou un précipité.

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Additional Info

Field Value
Source https://hal.science/hal-00824491
Author Baillet, Francis, Gondrexon, N.
Maintainer CCSD
Last Updated May 11, 2026, 01:52 (UTC)
Created May 11, 2026, 01:52 (UTC)
Identifier Patent N°: EP2432586 (A1)
Language en
contributor Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés (SIMaP) ; Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Institut polytechnique de Grenoble - Grenoble Institute of Technology (Grenoble INP)-Institut National Polytechnique de Grenoble (INPG)-Institut de Chimie - CNRS Chimie (INC-CNRS)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
creator Baillet, Francis
date 2012-03-28T00:00:00
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harvest_source_title test moissonnage SELUNE
metadata_modified 2025-09-27T00:00:00
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