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<https://rec.harvest-normandie.data4citizen.com/dataset/oai-hal-hal-00824491v1> a dcat:Dataset ;
    dct:description """
              Procédé de gravure d'une structure (1) comprenant au moins un matériau à graver (4), comprenant : - choisir au moins une espèce chimique apte à réagir avec le matériau à graver (4), - choisir au moins un composé soluble apte à libérer l'espèce chimique précitée, - réaliser une solution (11) contenant ledit composé, - placer la structure (1) dans une position telle que la surface du matériau à graver soit en présence de la solution et de bulles additionnelles d'un gaz, - et produire dans la solution des ultrasons à haute fréquence, à au moins une fréquence, apte à générer des bulles réactives de cavitation telles que l'espèce chimique est générée en présence desdites bulles additionnelles et réagit avec le matériau à graver en produisant un composé soluble ou un précipité.
            """ ;
    dct:identifier "Patent N°: EP2432586 (A1)" ;
    dct:issued "2026-05-11T01:52:17.484103"^^xsd:dateTime ;
    dct:language "en" ;
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    dct:publisher <https://rec.harvest-normandie.data4citizen.com/organization/cce9db95-46d9-4dc2-84b6-764215d0a002> ;
    dct:title "Method for etching a material in the presence of a gas" ;
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            vcard:fn "CCSD" ] ;
    dcat:distribution <https://rec.harvest-normandie.data4citizen.com/dataset/oai-hal-hal-00824491v1/resource/d1244a3e-ca17-4a11-ba00-2d05d4818771> ;
    dcat:keyword "chimmatechemical-sciencesmaterial-chemistry",
        "infoeu-reposemanticspatent",
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    dct:title "Method for etching a material in the presence of a gas" ;
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