Method for etching a material in the presence of a gas
type: Dataset
description: Procédé de gravure d'une structure (1) comprenant au moins un matériau à graver (4), comprenant : - choisir au moins une espèce chimique apte à réagir avec le matériau à graver (4), - choisir au moins un composé soluble apte à libérer l'espèce chimique précitée, - réaliser une solution (11) contenant ledit composé, - placer la structure (1) dans une position telle que la surface du matériau à graver soit en présence de la solution et de bulles additionnelles d'un gaz, - et produire dans la solution des ultrasons à haute fréquence, à au moins une fréquence, apte à générer des bulles réactives de cavitation telles que l'espèce chimique est générée en présence desdites bulles additionnelles et réagit avec le matériau à graver en produisant un composé soluble ou un précipité.
identifier: Patent N°: EP2432586 (A1)
issued: 2026-05-11T01:52:17.484103
language: en
modified: 2026-05-11T01:52:17.484108
contact point: Organization
  fn: CCSD
keyword: chimmatechemical-sciencesmaterial-chemistry
keyword: infoeu-reposemanticspatent
keyword: patents
landing page: https://hal.science/hal-00824491

Method for etching a material in the presence of a gas
type: Distribution
format: HTML
issued: 2026-05-11T01:52:17.486064
modified: 2026-05-11T01:52:17.478344
access URL: https://hal.science/hal-00824491

test_moissonnage_selune
type: Agent